课程简介
薄膜凭借其微小的体积和优异的性能，在电子信息、能源环境、机械化工、航空航天、制造加工、生物医学等国民经济主要行业和领域中发挥着越来越重要的作用。本课程面向所有理工科高年级本科生以及研究生，课程内容包括真空技术简介、物理气相沉积、化学气相沉积、化学溶液法、薄膜的生长及结构、薄膜性能测试和结构表征。该课程旨在引导学生了解电子薄膜技术的发展概况，理解真空技术的相关知识，掌握薄膜制备的技术体系及典型技术。从而能够在薄膜制备过程中，了解薄膜工艺、结构与性能的关联机制，初步掌握薄膜物理与制备技术，为进一步开展薄膜材料的性能优化及应用研究奠定基础。
课程大纲
绪论
1.1薄膜的定义
1.2薄膜的制备方法及应用
真空
2.1真空
2.2稀薄气体的基本性质
2.3真空的获得
2.4真空的测量
蒸发
3.1蒸发的基本概念
3.2蒸发的膜厚分布
3.3蒸发方法简介
溅射
4.1溅射与等离子体
4.2溅射特性
4.3溅射过程
4.4射频溅射与磁控溅射
化学气相沉积
5.1CVD的化学反应类型
5.2CVD的反应法则
5.3CVD装置及类型
溶液镀膜法
6.1溶胶凝胶法和LB膜
6.2阳极氧化、电镀、化学镀
薄膜的生长及结构
7.1薄膜的生长过程
7.2薄膜成核理论
7.3连续薄膜的形成、薄膜结构及缺陷
薄膜的表征方法
8.1薄膜厚度测试
8.2薄膜形貌及结构表征
1.1薄膜的定义
1.2薄膜的制备方法及应用
真空
2.1真空
2.2稀薄气体的基本性质
2.3真空的获得
2.4真空的测量
蒸发
3.1蒸发的基本概念
3.2蒸发的膜厚分布
3.3蒸发方法简介
溅射
4.1溅射与等离子体
4.2溅射特性
4.3溅射过程
4.4射频溅射与磁控溅射
化学气相沉积
5.1CVD的化学反应类型
5.2CVD的反应法则
5.3CVD装置及类型
溶液镀膜法
6.1溶胶凝胶法和LB膜
6.2阳极氧化、电镀、化学镀
薄膜的生长及结构
7.1薄膜的生长过程
7.2薄膜成核理论
7.3连续薄膜的形成、薄膜结构及缺陷
薄膜的表征方法
8.1薄膜厚度测试
8.2薄膜形貌及结构表征